HI.P.PO.
High Productive Powered Sputtering Cathode
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Entdecken Sie die neue Generation von Sputtering-Kathoden von Kenosistec: HI.P.PO.
Dieses patentierte System überträgt während der Abscheidung keine Wärme auf die Substrate und gewährleistet dank einer höheren Abscheiderate eine bis zu 10-fach höhere Produktivität.
Darüber hinaus ermöglicht es erhebliche Energieeinsparungen und reduziert den Verbrauch des Target-Materials.
HI.P.PO. ist in kundenspezifischen Abmessungen erhältlich, um jeder spezifischen Anforderung gerecht zu werden.
Dank seiner hohen Abscheidegeschwindigkeit kann HI.P.PO. mit der traditionellen Metallisierung durch Verdampfung konkurrieren.
Da es sich um ein Magnetron-Sputtering-System handelt, bietet HI.P.PO. eine höhere Reproduzierbarkeit, Stabilität, gleichmäßige Beschichtung sowie die Möglichkeit, Prozessparameter individuell anzupassen. Dadurch ist das System auch für Kunststoffe wie ABS, Polycarbonat und PMMA besonders effektiv.
Viele Industriezweige können von der außergewöhnlichen Vielseitigkeit dieses Systems profitieren: von der Automobilindustrie und Luft- und Raumfahrt über Mode und Schmuck bis hin zu Lebensmittelverpackungen und der Textilindustrie.
HI.P.PO. kann zahlreiche Metalle abscheiden, darunter:
- Aluminium
- Titan
- Chrom
- Kupfer
- Nickel
Mit dieser innovativen Sputtering-Kathode ist es außerdem möglich, Verbundmaterialien dieser Metalle wie Nitride und Carbide abzuscheiden.
Kontaktieren Sie uns, um zu prüfen, ob Ihr Abscheidematerial bereits getestet wurde oder wenn Sie die Einsatzmöglichkeiten von HI.P.PO. bewerten möchten.
- Mindestdurchmesser: 70 mm
- Maximaldurchmesser: 200 mm
- Höhe: variabel von 100 mm bis 4000 mm
- Abscheiderate: bis zu 10-mal höher im Vergleich zu herkömmlichen planaren Kathoden
- Abscheidetemperaturen, die mit vielen Kunststoffen kompatibel sind (T < 80 °C)
- Kundenspezifische Abmessungen
- Reduzierung des Kammervolumens um ca. 40 %
- Niedriger Energieverbrauch
- Reduzierung von Wartungszeiten und Wartungsfrequenz der Anlagen
- Kosteneinsparung bei den Target-Materialien sowie geringerer Austausch- und Wartungsaufwand
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HI.P.PO.
Die neue Generation von Sputterkathoden, die während der Abscheidung keine Wärme an die Substrate abgeben. Entwickelt und patentiert von Kenosistec.