HI.P.PO.
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Descubre la nueva generación de cátodos de sputtering desarrollados por Kenosistec: HI.P.PO.
Este sistema patentado no transfiere calor a los sustratos durante la deposición, garantizando una productividad hasta 10 veces mayor gracias a una mayor velocidad de depósito.
Además, ofrece ahorros energéticos significativos y reduce el consumo de material target.
Está disponible en dimensiones personalizadas para satisfacer cualquier necesidad específica.
Gracias a su velocidad de depósito, HI.P.PO. puede competir con la metalización tradicional por evaporación.
Al ser un sistema de magnetrón sputtering, HI.P.PO. ofrece mayor reproducibilidad, estabilidad, deposición uniforme y la posibilidad de personalizar los parámetros, resultando eficaz incluso en materiales plásticos como ABS, policarbonato y PMMA.
Muchas industrias pueden beneficiarse de la extraordinaria versatilidad de este sistema: desde la industria automotriz y aeroespacial, hasta la moda y la joyería, pasando por el empaquetado alimentario y la industria textil.
HI.P.PO. es capaz de depositar muchos metales, entre ellos:
- Aluminio
- Titanio
- Cromo
- Cobre
- Níquel
Con este innovador cátodo de sputtering también es posible depositar materiales compuestos de dichos metales, como nitruros y carburos.
Contáctanos para comprobar si tu material de depósito ya ha sido testado o si deseas evaluar la aplicabilidad de HI.P.PO.
- Diámetro mínimo: 70 mm
- Diámetro máximo: 200 mm
- Altura: puede variar de 100 mm a 4000 mm
- Tasa de deposición: hasta 10 veces superior en comparación con los cátodos planos tradicionales
- Temperaturas de deposición compatibles con muchos plásticos (T < 80 °C)
- Dimensiones personalizadas
- Reducción del volumen de la cámara de aproximadamente un 40 %
- Bajo consumo energético
- Reducción de los tiempos y la frecuencia de mantenimiento de los equipos
- Ahorro en los costes de los materiales target, junto con una disminución de su sustitución y mantenimiento
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La evaporación es un proceso PVD caracterizado por su baja energía y alta velocidad de deposición. En este caso, el material sólido se calienta hasta alcanzar su punto de fusión o evaporación, pasando al estado gaseoso y condensándose sobre la superficie del sustrato.
Se utiliza ampliamente cuando se requieren recubrimientos metálicos decorativos o funcionales de gran homogeneidad.
HI.P.PO.
La nueva generación de cátodos de pulverización catódica que no ceden calor a los sustratos durante la deposición. Desarrollado y patentado por Kenosistec.