R&D Systems
Arco catodico
La deposizione ad arco catodico è un processo PVD ad alta energia con un elevato tasso di deposizione, principalmente usato con metalli a bassa conduzione termica.
È una tecnologia PVD nota da più di un secolo, già ampiamente utilizzata in campo R&D e recentemente introdotta anche nelle industrie che richiedono un rivestimento resistente e decorativo, dove è necessaria una maggiore copertura e adesione, specialmente in presenza di geometrie complesse.
Grazie alla deposizione ad arco catodico è possibile ottenere:
- alta ed efficiente produzione di plasma metallico,
- eccellenti proprietà meccaniche, Resistenza, Estetiche del rivestimento
- ampia gamma, costantemente in crescita, di materiali producibili.
La camera è raffreddata ad acqua e può essere fornita di porta substrati a singola o doppia rotazione per rivestire campioni piani o 3D.
Ogni configurazione può avere le seguenti caratteristiche:
- supporti riscaldabili fino a 400°C.
- porta substrati isolato per biasing e pulizia al plasma.
- sorgenti ad arco: 63 mm o 100 mm di diametro (di nostro design)
Plasma Ion Source opzionale per la pulizia di substrati non conduttivi.
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