Paese e lingua:
Website:
Decorative coating solutions for industry

HI.P.PO.

High Productive Powered Sputtering Cathode
  • kenosistec-catodo-alta-produttivita-sputtering
  • hippo-sputtering-catodo-magnetron-kenosistec

La nuova generazione di catodi Sputtering che non cede calore ai substrati durante la deposizione. Sviluppato e brevettato da Kenosistec, HI.P.PO. permette diaumentare per ben 10 volte la produttività, grazie a un tasso di deposito più elevato, il risparmio energetico e di ridurre il consumo di materiale target. Disponibili dimensioni personalizzate a seconda delle specifiche esigenze.

Grazie alla sua velocità di deposito, HI.P.PO. compete con la tradizionale metallizzazione per evaporazione. Hi.P.Po. è un magnetron sputtering, quindi più riproducibile, stabile (uniformità durante la deposizione) e tarabile (cambiare parametri), persino su plastica (abs, policarbonato, pmma).

Sono molte le industrie che possono beneficiare della straordinaria versatilità di questo sistema: dall'industria automobilistica e aerospaziale, alla moda e gioielleria, dall'imballaggio alimentare all'industria tessile.

Hi.P.Po. è in grado di depositare molti metalli, tra cui:

  • Alluminio
  • Titanio
  • Cromo
  • Rame
  • Nichel

Con questo innovativo catodo Sputtering è possibile anche depositare materiali compositi di tali metalli, come nitruri e carburi. Contattaci per verificare se il tuo materiale di deposito è stato già testato o vuoi valutare l’applicabilità di HI.P.Po.

  • Diametro minimo: 70 mm
  • Diametro massimo: 200 mm
  • Altezza: può variare da 100 mm a 4000 mm


  • Tasso di deposizione 10 volte superiore rispetto ai tradizionali catodi planari
  • Temperature di deposizione compatibili con molte plastiche (T< 80°C)
  • Dimensioni personalizzate
  • Riduzione del volume della camera di circa il 40%
  • Basso consumo energetico 
  • Riduzione dei tempi e della frequenza di manutenzione delle apparecchiature
  • Risparmio sui costi dei materiali target, uniti ad una riduzione del loro cambio e manutenzione
Prodotti correlati
    attrezzatura-sputtering-pvd-kenosistec
    Sputtering

    Lo sputtering è un processo PVD a bassa temperatura-alta energia nel quale un target viene bombardato da ioni e vaporizzato, per poi essere depositato su un substrato sotto forma di un sottile strato...

    componenti-per-deposizione-film-sottili-kenosistec
    Componenti per la deposizione di film sottile

    Riscaldatori e raffreddatori, manipolatori e dispositivi meccanici speciali possono essere progettati su richiesta.

    serie-ksa-deposizione-film-sottili-decorativi-e-funzionali-kenosistec
    SERIE KSA 700-1300 V, impianti PVD per grandi volumi di produzione

    La serie KSA è composta da sistemi PVD altamente versatili, progettati per grandi volumi di produzione e per applicazioni decorative.

Contattaci
  • Viale delle scienze, 23, 20082 Binasco MI
  • Tel +39 02 9055200