HI.P.PO.
La nuova generazione di catodi Sputtering che non cede calore ai substrati durante la deposizione. Sviluppato e brevettato da Kenosistec, HI.P.PO. permette diaumentare per ben 10 volte la produttività, grazie a un tasso di deposito più elevato, il risparmio energetico e di ridurre il consumo di materiale target. Disponibili dimensioni personalizzate a seconda delle specifiche esigenze.
Grazie alla sua velocità di deposito, HI.P.PO. compete con la tradizionale metallizzazione per evaporazione. Hi.P.Po. è un magnetron sputtering, quindi più riproducibile, stabile (uniformità durante la deposizione) e tarabile (cambiare parametri), persino su plastica (abs, policarbonato, pmma).
Sono molte le industrie che possono beneficiare della straordinaria versatilità di questo sistema: dall'industria automobilistica e aerospaziale, alla moda e gioielleria, dall'imballaggio alimentare all'industria tessile.
Hi.P.Po. è in grado di depositare molti metalli, tra cui:
- Alluminio
- Titanio
- Cromo
- Rame
- Nichel
Con questo innovativo catodo Sputtering è possibile anche depositare materiali compositi di tali metalli, come nitruri e carburi. Contattaci per verificare se il tuo materiale di deposito è stato già testato o vuoi valutare l’applicabilità di HI.P.Po.
- Diametro minimo: 70 mm
- Diametro massimo: 200 mm
- Altezza: può variare da 100 mm a 4000 mm
- Tasso di deposizione 10 volte superiore rispetto ai tradizionali catodi planari
- Temperature di deposizione compatibili con molte plastiche (T< 80°C)
- Dimensioni personalizzate
- Riduzione del volume della camera di circa il 40%
- Basso consumo energetico
- Riduzione dei tempi e della frequenza di manutenzione delle apparecchiature
- Risparmio sui costi dei materiali target, uniti ad una riduzione del loro cambio e manutenzione
- Viale delle scienze, 23, 20082 Binasco MI
- Tel +39 02 9055200