Paese e lingua:
Website:
R&D Systems

PECVD

Il PECVD, acronimo di Plasma-enhanced chemical vapour deposition, è un processo chimico di deposizione di film sottili potenziato dal plasma.

Nella deposizione PECVD, i materiali da depositare vengono inseriti in camera e, grazie a tale processo, passano dallo stato gassoso allo stato solido (ad es. la silice, SiO2). I pezzi da trattare vengono immessi all’interno della camera da vuoto che viene portata a pressioni di qualche pascal.

  • pecvd-deposizione-film-sottili-kenosistec

Questo particolare processo è conosciuto anche come CDV a bassa temperatura. Il plasma, infatti, viene utilizzato per abbassare notevolmente le temperature a cui il materiale si deposita sul pezzo, consentendo di utilizzare substrati che altrimenti non avrebbero resistito alle alte temperature.

I principali vantaggi di questa deposizione sono

- film omogeneo

- durezza molto elevata

- non modifica la macrostruttura del pezzo

Esistono due tipi di configurazione:

  • Sorgenti RF ad accoppiamento induttivo. In questo caso la deposizione può essere pilotata da anodo o da catodo.
  • Sorgenti di vapore con sistema a flusso controllato con dimensioni massime del supporto 300x300 mm che può anche essere raffreddato.

È possibile progettare impianti su misura per applicazioni più specifiche.

Prodotti correlati
    attrezzatura-sputtering-pvd-kenosistec
    Sputtering

    Lo sputtering è un processo PVD a bassa temperatura-alta energia nel quale un target viene bombardato da ioni e vaporizzato, per poi essere depositato su un substrato sotto forma di un sottile strato...

    deposizione-arco-catodica-kenosistec
    Arco catodico

    La deposizione al plasma ad arco catodico è un processo PVD ad alta energia con un tasso di deposizione elevato, principalmente per metalli con bassa conduttanza termica.

    sistema-tecnologie-combinate-pvd-kenosistec
    Sistemi PVD a tecnologie combinate

    Le tecnologie PVD possono essere combinate in una soluzione polivalente dove sono richiesti due o più processi su un substrato, mantenendo sempre un ambiente di deposizione pulito.

    componenti-per-deposizione-film-sottili-kenosistec
    Componenti per la deposizione di film sottile

    Riscaldatori e raffreddatori, manipolatori e dispositivi meccanici speciali possono essere progettati su richiesta.

Contattaci
  • Viale delle scienze, 23, 20082 Binasco MI
  • Tel +39 02 9055200