R&D Systems
Sistemi di evaporazione
L'evaporazione è un processo PVD a bassa energia e alta velocità di deposizione in cui il materiale solido viene riscaldato fino al raggiungimento dello stato di evaporazione. In un secondo momento, il vapore così ottenuto raggiunge il substrato, condensandosi su di esso.
Semplicità e precisione sono le principali caratteristiche che contraddistinguono questa tecnologia PVD.
I sistemi di evaporazione PVD Kenosistec sono costituiti da una camera di processo cilindrica o cubica, che può essere dotata di diverse sorgenti di deposizione: celle termiche, ad effusione - progettate specificamente per perovskiti e materiali organici - e sorgenti e-beam.
I sistemi di evaporazione possono essere attivati con diverse funzionalità:
• singola e/o co-evaporazione
• riscaldamento del supporto fino a 800°c
• lon beam etching e lon beam (deposizione assistita)
L'apparecchiatura, inoltre, può essere fornita con porta-substrati doppia rotazione, flat o dome
- Per velocizzare il caricamento della camera principale, è possibile aggiungere una camera load-lock – ovvero una camera interconnessa mediante un meccanismo di trasferimento del vuoto. Quest’ anticamera è necessaria per garantire la continuità del vuoto e non disperderlo.
- preriscaldamento dei campioni e/o per trattamento al plasma.
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