L'istituto Paul Scherrer sceglie Kenosistec
L’istituto Paul Scherrer (PSI) ha avanzato la richiesta di un impianto PVD con caratteristiche Hardware specifiche, capace di effettuare migliaia di deposizioni a substrato con un'alta velocità di deposizione.
Il Cliente
L’istituto Paul Scherrer (PSI) è conosciuto come il più grande istituto di ricerca per le scienze ingegneristiche e naturali in Svizzera. Questa prestigiosa istituzione è un polo di ricerca all’avanguardia che lavora in diverse aree:
- Nell'ambito delle Tecnologie del Futuro e delle Scienze della Natura, il PSI si dedica allo studio della struttura interna dei materiali e della comprensione dei processi naturali al fine di sviluppare nuovi materiali per applicazioni tecniche avanzate.
- Nei campi dell’Energia e del Clima realizza nuove tecnologie che aiutano a velocizzare i processi di transizione verde attraverso la creazione di sistemi in grado di fornire energia sostenibile e sicura, che non contaminino l’ambiente e minimizzino gli impatti.
- L'innovazione nel campo della Salute è un altro settore chiave di ricerca del PSI, che si concentra sullo studio delle cause delle malattie e sullo sviluppo di potenziali metodi di trattamento.
Poter contare su un’infrastruttura di ricerca all’avanguardia è quindi fondamentale per il PSI, che deve avere a disposizione impianti di laboratorio che possano consentire di condurre esperimenti complessi, riproducibili e dettagliati nei campi dei materiali, della nanotecnologia e delle scienze applicate.
La Richiesta
L’istituto Paul Scherrer ha avanzato la richiesta di un impianto PVD con caratteristiche Hardware specifiche, capace di effettuare migliaia di deposizioni a substrato. La velocità di deposizione è stata identificata come uno dei requisiti fondamentali per accelerare le operazioni, considerando soprattutto il gran numero di cicli previsti. L’impianto è stato quindi progettato pensando a favorire il raggiungimento degli obiettivi di ricerca del PSI in modo rapido ed efficiente, con lo scopo di garantire una base solida per ulteriori sviluppi scientifici e soddisfare le esigenze di produzione sperimentale.
La nostra Soluzione
Kenosistec ha accolto la sfida e prodotto unimpianto PVD (KS 2000 H In-Line), uno sputtering system molto versatile, capace di realizzare fino a 30.000 deposizioni di materiale a substrato. Oltre alla straordinaria velocità di deposizione, sono stati apportati anche miglioramenti per accelerare i processi di manutenzione, con lo scopo di ottimizzare ulteriormente la produttività dell'impianto.
La macchina è capace di generare film sottili perfettamente uniformi e favorire una deposizione multipla sempre precisa e impeccabile. Dopo i dovuti collaudi, l’impianto PVD è stato consegnato all’istituto di ricerca.
Grazie alla collaborazione tra l'Istituto Paul Scherrer e Kenosistec, la ricerca avanzerà ulteriormente, contribuendo al progresso, alla scoperta scientifica e alla creazione di soluzioni all'avanguardia in campo tecnologico, medico e energetico.
