HI.P.PO.

High Productive Powered Sputtering Cathode
La nuova generazione di catodi Sputtering che non cede calore ai substrati durante la deposizione. Sviluppato e brevettato da Kenosistec, HI.P.PO. permette diaumentare per ben 10 volte la produttività, grazie a un tasso di deposito più elevato, il risparmio energetico e di ridurre il consumo di materiale target. Disponibili dimensioni personalizzate a seconda delle specifiche esigenze.

Grazie alla sua velocità di deposito, HI.P.PO. compete con la tradizionale metallizzazione per evaporazione. Hi.P.Po. è un magnetron sputtering, quindi più riproducibile, stabile (uniformità durante la deposizione) e tarabile (cambiare parametri), persino su plastica (abs, policarbonato, pmma).

Sono molte le industrie che possono beneficiare della straordinaria versatilità di questo sistema: dall’industria automobilistica e aerospaziale, alla moda e gioielleria, dall’imballaggio alimentare all’industria tessile.

Hi.P.Po. è in grado di depositare molti metalli, tra cui:

  • Alluminio
  • Titanio
  • Cromo
  • Rame
  • Nichel

Con questo innovativo catodo Sputtering è possibile anche depositare materiali compositi di tali metalli, come nitruri e carburi. Contattaci per verificare se il tuo materiale di deposito è stato già testato o vuoi valutare l’applicabilità di HI.P.Po.

  • Diametro minimo: 70 mm
  • Diametro massimo: 200 mm
  • Altezza: può variare da 100 mm a 4000 mm
  • Tasso di deposizione 10 volte superiore rispetto ai tradizionali catodi planari
  • Temperature di deposizione compatibili con molte plastiche (T< 80°C)
  • Dimensioni personalizzate
  • Riduzione del volume della camera di circa il 40%
  • Basso consumo energetico 
  • Riduzione dei tempi e della frequenza di manutenzione delle apparecchiature
  • Risparmio sui costi dei materiali target, uniti ad una riduzione del loro cambio e manutenzione

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