Evaporacion Arco catódico
La deposición por arco catódico es un proceso PVD de alta energía con una elevada tasa de deposición, utilizado principalmente con metales de baja conductividad térmica.
Se trata de una tecnología PVD conocida desde hace más de un siglo, ampliamente utilizada en el ámbito de la I+D y recientemente introducida también en industrias que requieren un recubrimiento resistente y decorativo, donde se necesita una mayor cobertura y adherencia, especialmente en presencia de geometrías complejas.
Documentos
Gracias a la deposición por arco catódico es posible obtener:
- Producción alta y eficiente de plasma metálico
- Excelentes propiedades mecánicas, resistencia y estética del recubrimiento
- Una amplia gama, en constante crecimiento, de materiales que pueden producirse
La cámara está refrigerada por agua y puede suministrarse con portamuestras de rotación simple o doble para recubrir muestras planas o 3D.
Cada configuración puede contar con las siguientes características:
- Soportes calefactables hasta 400 °C
- Portamuestras aislado para biasing y limpieza con plasma
- Fuentes de arco: 63 mm o 100 mm de diámetro (de nuestro diseño)
Fuente de iones de plasma opcional para la limpieza de sustratos no conductivos.
Productos relacionados
Sistemas de pulverizacion
La evaporación es un proceso PVD caracterizado por su baja energía y alta velocidad de deposición. En este caso, el material sólido se calienta hasta alcanzar su punto de fusión o evaporación, pasando al estado gaseoso y condensándose sobre la superficie del sustrato.
Se utiliza ampliamente cuando se requieren recubrimientos metálicos decorativos o funcionales de gran homogeneidad.
HI.P.PO.
La nueva generación de cátodos de pulverización catódica que no ceden calor a los sustratos durante la deposición. Desarrollado y patentado por Kenosistec.