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Cada cámara puede diseñarse para satisfacer requisitos específicos combinando diferentes procesos (por ejemplo, Sputtering, Evaporación, e-beam…).
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Cada cámara puede diseñarse para cumplir con requisitos específicos, combinando diferentes procesos (por ejemplo, Sputtering, Evaporación, e-beam…).
Estos sistemas son multifuncionales, expandibles, modulares y, por ello, muy flexibles.
Un load lock cassette-to-cassette está conectado a un módulo de transferencia desde el cual las muestras pueden desplazarse hasta la cámara de proceso, interconectado con una cámara central automatizada capaz de gestionar múltiples muestras en cada módulo, siempre manteniendo el vacío.
El número y el tipo de módulos dependen de las necesidades del cliente y de los requisitos del proceso.
Se trata, por lo tanto, de sistemas concebidos y creados a medida.
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Sistemas de pulverizacion
La evaporación es un proceso PVD caracterizado por su baja energía y alta velocidad de deposición. En este caso, el material sólido se calienta hasta alcanzar su punto de fusión o evaporación, pasando al estado gaseoso y condensándose sobre la superficie del sustrato.
Se utiliza ampliamente cuando se requieren recubrimientos metálicos decorativos o funcionales de gran homogeneidad.
HI.P.PO.
La nueva generación de cátodos de pulverización catódica que no ceden calor a los sustratos durante la deposición. Desarrollado y patentado por Kenosistec.