Sistemas PLD
Sistemas PLD
La deposición por láser pulsado ofrece un método versátil y eficaz para depositar películas delgadas con un control preciso sobre su composición, estructura y propiedades, lo que la convierte en una técnica muy valiosa en la investigación de materiales y en la fabricación de dispositivos.
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La PLD utiliza un láser de alta energía para ablacionar (vaporización por láser) un material target en condiciones de vacío o en una atmósfera controlada.
El material ablatado se deposita después sobre un sustrato colocado frente al blanco.
El proceso de ablación láser genera una pluma de plasma compuesta por iones y átomos del material del target, que se condensa sobre el sustrato formando una película delgada.
- Versatilidad: la PLD puede depositar una amplia gama de materiales, incluidos compuestos complejos y estructuras multicapa.
- Estequiometría controlada: la PLD permite un control preciso de la composición y la estequiometría de las películas depositadas.
- Películas de alta calidad: las películas PLD presentan una elevada cristalinidad y pureza.
KENOSISTEC acompaña al cliente en la elección del equipo PLD más adecuado para cada aplicación específica. Además, cada sistema puede estar equipado con un monitoreo continuo, como por ejemplo un Reed (interruptor de láminas), normalmente abierto, que se cierra en presencia de un campo magnético.
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La evaporación es un proceso PVD caracterizado por su baja energía y alta velocidad de deposición. En este caso, el material sólido se calienta hasta alcanzar su punto de fusión o evaporación, pasando al estado gaseoso y condensándose sobre la superficie del sustrato.
Se utiliza ampliamente cuando se requieren recubrimientos metálicos decorativos o funcionales de gran homogeneidad.
HI.P.PO.
La nueva generación de cátodos de pulverización catódica que no ceden calor a los sustratos durante la deposición. Desarrollado y patentado por Kenosistec.