Componenti per la deposizione di film sottile
Dalle sorgenti di magnetron e sorgenti di evaporazione ad arco catodico agli alimentatori: grazie alla vasta esperienza nella produzione di impianti da vuoto, offriamo al mercato i migliori componenti progettati e realizzati per la deposizione di film sottile.
Documenti
- Possibilità di lavorare in modalità dc, dc pulsata, rf e hipims
- Raffreddamento ad acqua mirato, diretto o indiretto
- Schermo anticontaminazione incrociata, schermo per spazi bui e morsetto con viti per un facile cambio del target
- Spessore del target da 1 a 6,35 mm (con morsetto appropriato)
- Serie di magneti per materiali conduttivi e isolanti o materiali ferromagnetici (preconfigurati)
- Gamma hv o uhv (preconfigurata)
- Montaggio interno o esterno (preconfigurato)
- Pressione di esercizio da 2 x 10-3 mbar a 2 x 1 0-2 mbar
Magnetron circolari
- Target standard magnetron circolare 2″, 3″ o 4″ (più grande su richiesta)
- Tilt o – 25° e anello di gas (opzionale)
- Versione diodo disponibile
Magnetron rettangolare
Magnetron rettangolare dimensioni target standard 8″x 3″, 12″x 3″, 16″x 5″, 22″x 5″, 43″x 5″
È possibile avere altre dimensioni su richiesta.
- Diametro del catodo: 63 o 100 mm
- Fino a 250 a
- Trigger di accensione degli archi (design esclusivo Kenosistec)
- Protezione rapida in caso di cortocircuito del trigger
- Scudo speciale per lo spazio scuro per la riduzione di umidità
- Facile montaggio del target
- Produzione di target economici
- Erosione effettiva dei target
Montando queste sorgenti allineate, è possibile depositare il film sottile desiderato anche su una vasta area.
In questa configurazione ogni sorgente può essere impostata indipendentemente per ottenere l’uniformità del rivestimento.
- Manipolatori (movimenti manuali e motorizzati)
- Riscaldatori
- Vasi di trasferimento sottovuoto
- Passante
- Flange speciali
- Finestre
- Crio-trappole
- Sistema di distribuzione del gas ad alta purezza
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