Sistemi PVD per R&D
Sviluppiamo nuove idee per portare la scienza al suo pieno potenziale. Come? Comprendendo e trasformando il processo di deposizione in soluzioni pionieristiche, per rispondere al meglio alle esigenze di ricercatori e istituzioni.
Sputtering
Lo sputtering è un processo PVD a bassa temperatura-alta energia nel quale un target viene bombarda...
Sistemi di evaporazione
L'evaporazione è un processo PVD a bassa energia e alto tasso di deposizione nel quale il materiale...
Arco catodico
La deposizione al plasma ad arco catodico è un processo PVD ad alta energia con un tasso di deposiz...
Sistema RIE
RIE (reactive ion etching) / IBE (ion beam etching) è un metodo ion-assisted reactive basato su una...
Sistemi PVD a tecnologie combinate
Le tecnologie PVD possono essere combinate in una soluzione polivalente dove sono richiesti due o pi...
Cluster
La migliore soluzione per evitare la contaminazione incrociata in una deposizione multi-processo che...
PECVD
Plasma enhaced chemical vapor deposition è una tecnologia a media energia ed elevato tasso di depos...
Sistemi PLD
La PLD prevede l'uso di un laser ad alta energia per ablare (vaporizzare) un materiale target in un ...
Camera Gas Sensor Test
In una camera pulita, l'umidità, la temperatura e l'atmosfera concentrata di gas viene prodotta e c...
Componenti per la deposizione di film sottile
Riscaldatori e raffreddatori, manipolatori e dispositivi meccanici speciali possono essere progettat...
HI.P.PO.
La nuova generazione di catodi Sputtering che non cede calore ai substrati durante la deposizione. S...