F&E-Systeme
Wir entwickeln neue Ideen, um die Wissenschaft zu ihrem vollen Potenzial zu führen. Wie?
Indem wir Beschichtungsprozesse verstehen und in wegweisende Lösungen verwandeln, die auf die Anforderungen von Forschenden und Institutionen zugeschnitten sind.
Sputtering
Das Sputtern ist ein Niedertemperatur-Hochenergie-PVD-Verfahren, bei dem ein Target mit Ionen beschossen und verdampft wird, um anschließend in Form einer atomdünnen Schicht auf einem Substrat abges...
Verdampfungssysteme
Die Verdampfung ist ein PVD-Verfahren mit geringer Energie und hoher Abscheidungsrate, bei dem das Material erhitzt wird....
Kathodischer Lichtbogen
Die Kathodenbogen-Plasmaabscheidung ist ein hochenergetisches PVD-Verfahren mit hoher Abscheidungsrate, das vor allem für Metalle mit geringer Wärmeleitfähigkeit eingesetzt wird....
RIE-System
RIE (Reactive Ion Etching) / IBE (Ion Beam Etching) ist ein ionengestütztes reaktives Verfahren, das auf einer Kombination aus chemischem und physikalischem Ätzen basiert und die isotropische sowie ...
PVD-Systeme mit kombinierten Technologien
PVD-Technologien lassen sich zu einer vielseitigen Lösung kombinieren, bei der zwei oder mehr Prozesse auf einem Substrat erforderlich sind, wobei stets eine saubere Abscheidungsumgebung gewährleist...
Cluster
Die beste Lösung zur Vermeidung von Kreuzkontaminationen bei einem Mehrprozess-Beschichtungsverfahren, bei dem die Beschichtung in mehreren Kammern gleichzeitig erfolgt....
PECVD
Die plasmaunterstützte chemische Gasphasenabscheidung ist eine Technologie mit mittlerer Energie und hoher Abscheidungsrate, bei der flüssige oder gasförmige Vorläuferstoffe verwendet werden, dere...
PLD-Systeme
Bei der PLD wird ein Hochenergielaser eingesetzt, um ein Zielmaterial im Vakuum oder in einer kontrollierten Atmosphäre abzutragen (zu verdampfen). Das abgetragene Material wird anschließend auf ein...
Prüfkammer für Gassensoren
In einem Reinraum werden Luftfeuchtigkeit, Temperatur und die Gasatmosphäre erzeugt und geregelt, wodurch Gassensoren getestet und kalibriert werden können....
Componenti per la deposizione di film sottile
Heiz- und Kühlgeräte, Handhabungsgeräte und spezielle mechanische Vorrichtungen können auf Anfrage entwickelt werden....
HI.P.PO.
Die neue Generation von Sputterkathoden, die während der Abscheidung keine Wärme an die Substrate abgeben. Entwickelt und patentiert von Kenosistec....