PLD-Systeme

PLD-Systeme

Die gepulste Laserabscheidung (Pulsed Laser Deposition, PLD) bietet ein vielseitiges und effizientes Verfahren zur Abscheidung dünner Schichten mit präziser Kontrolle über Zusammensetzung, Struktur und Eigenschaften. Dadurch ist sie eine besonders wertvolle Technik in der Materialforschung und bei der Herstellung moderner Bauelemente.

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Die PLD-Technologie verwendet einen Hochenergielaser, um ein Targetmaterial unter Vakuumbedingungen oder in einer kontrollierten Atmosphäre zu ablatieren (laserinduzierte Verdampfung).

Das abgetragene Material wird anschließend auf ein Substrat abgeschieden, das vor dem Target positioniert ist.

Der Laserablationsprozess erzeugt eine Plasmafahne, die aus Ionen und Atomen des Targetmaterials besteht und sich auf dem Substrat niederschlägt, wo sie eine Dünnschicht bildet.

  • Vielseitigkeit:
    Mit PLD lässt sich eine große Bandbreite an Materialien abscheiden, einschließlich komplexer Verbindungen und Mehrschichtstrukturen.
  • Kontrollierte Stöchiometrie:
    PLD ermöglicht eine präzise Kontrolle der Zusammensetzung und Stöchiometrie der abgeschiedenen Schichten.
  • Hochwertige Schichten:
    Mit PLD erzeugte Schichten zeichnen sich durch hohe Kristallinität und Reinheit aus.
KENOSISTEC unterstützt den Kunden bei der Auswahl der für die jeweilige Anwendung am besten geeigneten PLD-Anlage. Darüber hinaus kann jedes System mit einer kontinuierlichen Überwachung ausgestattet werden, zum Beispiel mit einem Reed-Kontakt (Magnetkontaktschalter), der normalerweise geöffnet ist und sich bei Vorhandensein eines Magnetfeldes schließt.

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