Kathodischer Lichtbogen

Die Kathodenbogen-Plasmaabscheidung ist ein hochenergetisches PVD-Verfahren mit hoher Abscheidungsrate, das vor allem für Metalle mit geringer Wärmeleitfähigkeit eingesetzt wird.

RIE-System

RIE (Reactive Ion Etching) / IBE (Ion Beam Etching) ist ein ionengestütztes reaktives Verfahren, das auf einer Kombination aus chemischem und physikalischem Ätzen basiert und die isotropische sowie anisotrope Materialabtragung ermöglicht.

PVD-Systeme mit kombinierten Technologien

PVD-Technologien lassen sich zu einer vielseitigen Lösung kombinieren, bei der zwei oder mehr Prozesse auf einem Substrat erforderlich sind, wobei stets eine saubere Abscheidungsumgebung gewährleistet bleibt.

Cluster

Die beste Lösung zur Vermeidung von Kreuzkontaminationen bei einem Mehrprozess-Beschichtungsverfahren, bei dem die Beschichtung in mehreren Kammern gleichzeitig erfolgt.

PECVD

Die plasmaunterstützte chemische Gasphasenabscheidung ist eine Technologie mit mittlerer Energie und hoher Abscheidungsrate, bei der flüssige oder gasförmige Vorläuferstoffe verwendet werden, deren chemische Bestandteile aufgebrochen und anschließend wieder verbunden werden, um auf der Oberfläche des Substrats abgeschieden zu werden.