Die plasmaunterstützte chemische Gasphasenabscheidung ist eine Technologie mit mittlerer Energie und hoher Abscheidungsrate, bei der flüssige oder gasförmige Vorläuferstoffe verwendet werden, deren chemische Bestandteile aufgebrochen und anschließend wieder verbunden werden, um auf der Oberfläche des Substrats abgeschieden zu werden.
Bei der PLD wird ein Hochenergielaser eingesetzt, um ein Zielmaterial im Vakuum oder in einer kontrollierten Atmosphäre abzutragen (zu verdampfen). Das abgetragene Material wird anschließend auf ein Substrat abgeschieden, das dem Ziel gegenüberliegt…
In einem Reinraum werden Luftfeuchtigkeit, Temperatur und die Gasatmosphäre erzeugt und geregelt, wodurch Gassensoren getestet und kalibriert werden können.
Heiz- und Kühlgeräte, Handhabungsgeräte und spezielle mechanische Vorrichtungen können auf Anfrage entwickelt werden.
Die neue Generation von Sputterkathoden, die während der Abscheidung keine Wärme an die Substrate abgeben. Entwickelt und patentiert von Kenosistec.