Impianti In-Line
Impianti In-Line
Sistemi di produzione in cui i substrati vengono trasportati in modo continuo attraverso una sequenza di camere di processo, ciascuna dedicata a una fase specifica del ciclo produttivo. Gli impianti in-line PVD Kenosistec vengono progettati attorno ad un obiettivo, per una produzione più rapida, affidabile e su misura.
Gli impianti inline di Kenosistec portano i substrati in sequenza attraverso camere dedicate, dal carico allo scarico, in un flusso continuo e ripetibile. Questa architettura garantisce alta produttività, uniformità di processo e costi per pezzo ridotti, dalla linea pilota alla produzione in serie.
Ogni impianto è progettato intorno alle esigenze del cliente. Combiniamo le tecniche di deposizione più adatte al materiale, al substrato e alla funzionalità richiesta:
- Sputtering magnetron (DC, DC pulsato, RF, HiPIMS): per film metallici, ossidi e nitruri, anche in modalità reattiva, con catodi planari o rotativi.
- Evaporazione termica: per metalli e composti a bassa temperatura di evaporazione, ideale per contatti, specchi e strati funzionali.
- Evaporazione a fascio elettronico: per materiali refrattari e ossidi ottici, con elevata purezza e controllo della velocità di deposizione.
- PECVD: per film dielettrici e di passivazione, come nitruri e ossidi di silicio, a temperature contenute.
- Sorgenti ioniche e plasma: per pulizia, attivazione superficiale e assistenza alla crescita del film, per una migliore adesione e densità.
Le tecniche si possono integrare nella stessa linea. Un unico impianto può quindi preparare la superficie, depositare uno stack multistrato e proteggerlo con un rivestimento finale, senza rompere il vuoto tra una fase e l’altra.
Dimensioni dei substrati, numero di camere, sistemi di trasporto e controllo di processo sono configurabili. Dalla ricerca all’industria, l’impianto cresce con il tuo prodotto.
Prodotti correlati
Impianti In-Line
Lo sputtering è un processo PVD a bassa temperatura-alta energia nel quale un target viene bombardato da ioni e vaporizzato, per poi essere depositato su un substrato sotto forma di un sottile strato atomico.
Sputtering
Lo sputtering è un processo PVD a bassa temperatura-alta energia nel quale un target viene bombardato da ioni e vaporizzato, per poi essere depositato su un substrato sotto forma di un sottile strato atomico.
Sistemi di evaporazione
L'evaporazione è un processo PVD a bassa energia e alto tasso di deposizione nel quale il materiale viene riscaldato.
Arco catodico
La deposizione al plasma ad arco catodico è un processo PVD ad alta energia con un tasso di deposizione elevato, principalmente per metalli con bassa conduttanza termica.
Sistema RIE
RIE (reactive ion etching) / IBE (ion beam etching) è un metodo ion-assisted reactive basato su una combinazione di attacco chimico e fisico che consente la rimozione del materiale isotropico e anisotropo.
Sistemi PVD a tecnologie combinate
Le tecnologie PVD possono essere combinate in una soluzione polivalente dove sono richiesti due o più processi su un substrato, mantenendo sempre un ambiente di deposizione pulito.
Cluster
La migliore soluzione per evitare la contaminazione incrociata in una deposizione multi-processo che prevede la deposizione in contemporanea in più camere.
PECVD
Plasma enhaced chemical vapor deposition è una tecnologia a media energia ed elevato tasso di deposizione, che utilizza precursori allo stadio liquido o gassoso, dove le loro componenti chimiche vengono frantumate e poi ricombinate per essere depositate sulla superficie del substrato.
Sistemi PLD
La PLD prevede l'uso di un laser ad alta energia per ablare (vaporizzare) un materiale target in un vuoto o in un'atmosfera controllata. Il materiale ablato viene poi depositato su un substrato posto di fronte al bersaglio...
Camera Gas Sensor Test
In una camera pulita, l'umidità, la temperatura e l'atmosfera concentrata di gas viene prodotta e controllata, consentendo di testare e calibrare dispositivi sensori di gas.
Componenti per la deposizione di film sottile
Riscaldatori e raffreddatori, manipolatori e dispositivi meccanici speciali possono essere progettati su richiesta.
HI.P.PO.
La nuova generazione di catodi Sputtering che non cede calore ai substrati durante la deposizione. Sviluppato e brevettato da Kenosistec.