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Impianti In-Line

Sistemas In-Line

Produktionsanlagen, in denen die Substrate kontinuierlich durch eine Abfolge von Prozesskammern transportiert werden, die jeweils einem bestimmten Schritt des Produktionszyklus gewidmet sind. Die In-Line-PVD-Anlagen von Kenosistec sind auf ein einziges Ziel ausgelegt: eine schnellere, zuverlässigere und maßgeschneiderte Produktion.

 

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Die In-Line-Anlagen von Kenosistec führen die Substrate nacheinander durch dedizierte Kammern, vom Beladen bis zum Entladen, in einem kontinuierlichen und reproduzierbaren Fluss. Diese Architektur sorgt für hohen Durchsatz, Prozessgleichmäßigkeit und niedrigere Stückkosten, von der Pilotlinie bis zur Serienfertigung.
Jede Anlage wird auf die Anforderungen des Kunden zugeschnitten. Wir kombinieren die Beschichtungsverfahren, die am besten zu Material, Substrat und gewünschter Funktion passen:

  • Magnetron-Sputtern (DC, gepulstes DC, RF, HiPIMS): für Metall-, Oxid- und Nitridschichten, auch im reaktiven Modus, mit Planar- oder Rotationskathoden.
  • Thermisches Verdampfen: für Metalle und Verbindungen mit niedriger Verdampfungstemperatur, ideal für Kontakte, Spiegel und Funktionsschichten.
  • Elektronenstrahlverdampfen: für refraktäre Materialien und optische Oxide, mit hoher Reinheit und präziser Steuerung der Abscheiderate.
  • PECVD: für dielektrische und Passivierungsschichten, etwa Siliziumnitride und -oxide, bei moderaten Temperaturen.
  • Ionen- und Plasmaquellen: zur Reinigung, Oberflächenaktivierung und Unterstützung des Schichtwachstums, für bessere Haftung und Dichte.

Diese Verfahren lassen sich in derselben Linie integrieren. Eine einzelne Anlage kann so die Oberfläche vorbereiten, einen Mehrschichtstapel abscheiden und ihn mit einer Deckschicht schützen, ohne das Vakuum zwischen den Schritten zu brechen.
Substratgröße, Anzahl der Kammern, Transportsysteme und Prozesssteuerung sind konfigurierbar. Von der Forschung bis zur Industrie wächst die Anlage mit Ihrem Produkt.

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